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    Titel :

    Toward a high-average-power and debris-free soft x-ray source for microlithography pumped by a long-pulse excimer laser [3767-04]


    Beteiligte:
    Bollanti, S. (Autor:in) / Di Lazzaro, P. (Autor:in) / Flora, F. (Autor:in) / Letardi, T. (Autor:in) / Marinai, A. (Autor:in) / Nottola, A. (Autor:in) / Vigli-Papadaki, K. (Autor:in) / Vitali, A. (Autor:in) / Bonfigli, F. (Autor:in) / Lisi, N. (Autor:in)

    Kongress:

    Conference, EUV, X-ray, and neutron optics and sources ; 1999 ; Denver, CO



    Erscheinungsdatum :

    1999-01-01


    Format / Umfang :

    12 pages




    Medientyp :

    Aufsatz (Konferenz)


    Format :

    Print


    Sprache :

    Englisch




    Nr. 3767

    DataCite | 1917


    Advanced krypton fluoride excimer laser for microlithography

    Ishihara, Toshihiko / Sandstrom, Richard L. / Reiser, Christopher et al. | SPIE | 1992


    High-power source and illumination system for extreme ultraviolet lithography [3767-20]

    Kubiak, G. D. / Bernardez, L. J. / Krenz, K. D. et al. | British Library Conference Proceedings | 1999


    High-repetition-rate ArF excimer laser for microlithography [4088-80]

    Wakabayashi, O. / Enami, T. / Ishii, K. et al. | British Library Conference Proceedings | 2000


    Polycapillary collimator for laser-generated plasma source x-ray lithography [3767-05]

    Chen, Z. W. / Youngman, R. / Bievenue, T. et al. | British Library Conference Proceedings | 1999