Bei der Reinstgasversorgung sollte immer die technisch sichere Ausführung als Maßstab für alle Gasversorgungssysteme dienen. Die Grundsatzfragen müssen schon bei der Planungsstufe sehr sorgfältig mit allen Beteiligten und Betreibern Punkt für Punkt durchgesprochen werden. Da die kritischsten Anwendungen als Maßstab für alle - auch einfacheren - Gasführungen dienen sollten, wird in diesem Bericht der Aufbau einer zentral gesteuerten Reinst- und Dotiergasversorgung, wie sie zum Beispiel in der Halbleitertechnologie verwendet wird, im Detail etwas genauer erläutert. Gasversorgungen in anderen Anwendungsgebieten werden gleichfalls mit angesprochen.


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    Title :

    Prozeß- und Reinstgasversorgung in der Halbleitertechnik (in Reinraumtechnik)


    Additional title:

    Process gas and high clean gas supply in the semiconductor technology


    Contributors:
    Barath, B. (author) / Kurkowski, S. (author)

    Published in:

    Fortschrittberichte VDI ; Reihe 19 , 38 ; 104-115


    Publication date :

    1990


    Size :

    12 Seiten, 2 Tabellen


    Type of media :

    Report


    Type of material :

    Print


    Language :

    German





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