Die Nutzung neuer reflexionsellipsometrischer Messverfahren für die hochauflösende Oberflächenvermessung wurde untersucht. Hierbei wurde durch kombinative Auswertung der Strahlungspolarisation zusätzlich zur Oberflächentopografie simultan auch die Materialverteilung an der Oberfläche erfasst. Ein neuartiges PSA-Ellipsometer mit fokussiertem Messstrahl (Mikroellipsometer) misst durch Abscannen der Oberfläche die lokalen Verteilungen von vier ellipsometrischen Kenngrößen. Diese Parameter ermöglichen es, die lokalen Steigungswinkel sowie die komplexe optische Brechzahl des Materials zu bestimmen. Das Verfahren konnte an unterschiedlichen Oberflächen erfolgreich erprobt werden. Neben der Materialidentifizierung und der Topometrie sind weitere Anwendungen des Verfahrens z.B. zur Erkennung und Lokalisierung von Legierungsvariationen und Korrosionsstellen denkbar. Das Verfahren könnte daher in der Qualitätssicherung eingesetzt werden.
Präzise Strukturmesstechnik mit lasergestützter Mikroellipsometrie
tm - Technisches Messen ; 66 , 11 ; 455-462
1999-01-01
8 pages
Article (Journal)
German
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