To more reliably detect an imaging target while suppressing unevenness in light distribution.SOLUTION: A control unit 40 causes a light source 110 to emit light in a first pattern at a first timing as a light emitting pattern, and causes the light source 110 to emit a second pattern at a second timing different from the first timing. The first and second patterns have regions in which the arrangement of bright parts and dark parts is different from that of the third pattern, which is projected at a third timing different from the first and second timings. An imaging unit 20 uses an imaging device 21 to take images of one or more patterns projected at different timings.SELECTED DRAWING: Figure 1
【課題】配光のムラを抑制しつつ、より確実に撮像対象を検出できるようにする。【解決手段】制御部40は、投光のパターンとして、第1タイミングにおいて第1パターンを光源110に投光させ、第1タイミングと異なる第2タイミングにおいて第2パターンを光源110に投光させる。第1および第2パターンは、明部と暗部の配置が、第1および第2タイミングと異なる第3タイミングで投光された第3パターンとは異なる領域を有する。撮像部20は、互いに異なるタイミングで投光された少なくとも1つのパターンについて撮像装置21によって撮像する。【選択図】図1
IMAGE PROCESSING DEVICE, IMAGE PROCESSING METHOD, AND IMAGE PROCESSING PROGRAM
画像処理装置、画像処理方法、および画像処理プログラム
2023-10-13
Patent
Electronic Resource
Japanese
European Patent Office | 2016
|European Patent Office | 2023
|IMAGE PROCESSING DEVICE, IMAGE PROCESSING METHOD AND IMAGE PROCESSING PROGRAM
European Patent Office | 2023
|IMAGE PROCESSING DEVICE, IMAGE PROCESSING METHOD, AND IMAGE PROCESSING PROGRAM
European Patent Office | 2023
|IMAGE PROCESSING PROGRAM, IMAGE PROCESSING DEVICE, AND IMAGE PROCESSING METHOD
European Patent Office | 2021
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