Rundgestricktes textiles Flächengebilde mit wenigstens einer doppellagigen Abstandsstruktur (2, 2'),wobei das rundgestrickte textile Flächengebilde (1) wenigstens eine einlagige Struktur (8) und wenigstens einen Strukturwechsel zwischen der doppellagigen Abstandsstruktur (2, 2') und der einlagigen Struktur (8) aufweist,dadurch gekennzeichnet,dass ein Polfaden (7), der in der doppellagigen Abstandsstruktur (2, 2') für den Abstand zwischen den beiden Lagen (4, 5) der doppellagigen Abstandsstruktur (2, 2') sorgt und in der einlagigen Struktur (8) nicht eingebunden ist, in der einlagigen Struktur (8) als Flottierung weitergeführt ist.
Rundgestricktes textiles Flächengebilde und Verfahren zu seiner Herstellung
2019-04-25
Patent
Electronic Resource
German
Flächengebilde und Windabweiseranordnung mit einem solchen Flächengebilde
European Patent Office | 2021
|European Patent Office | 2023
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