Untersuchung des Potentials der Synchrotronlithografie für die Strukturierung integrierter Schaltungen im Bereich 0.2 [my]m - 0.5 [my]m : Abschlußbericht zum Forschungsvorhaben ; Berichtszeitraum: 01.10.1988 - 30.09.1991 ; Contract NT2769-A5
Study on the potential of synchrotron lithography for patterning integrated circuits in the region of 0.2 [my]m - 0.5[my]m
1991
188 S
Digital preservation by Technische Informationsbibliothek (TIB) / Leibniz-Informationszentrum Technik und Naturwissenschaften und Universitätsbibliothek
Book
Unknown
Emsdetten : 01.10.1988-31.10.1988
TIBKAT | 1989
EMV-gerechter Entwurf integrierter Schaltungen
Automotive engineering | 1993
|EMV-gerechter Entwurf integrierter Schaltungen
Tema Archive | 1993
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