Als Originaldokument nur Kurzmitteilung vorhanden, im wesentlichen wie folgt: Mit zunehmender Integrationsdichte elektronischer Schaltungen in Dimensionen von 0,25 Mikrometer und darunter ist eine hohe Qualität der zu verwendenden Werkstoffe zusammen mit einem ultrahohen Vakuum erforderlich. Diese Anforderungen sind auf der Erde nur mit sehr großen Aufwendungen und damit auch stark ansteigenden Kosten verbunden. Man untersucht daher seit etwa einem Jahrzehnt, bei Flügen im erdnahen Raum mit Raumgleitern und in absehbarer Zeit auch in der geplanten Raumstation Columbus herauszufinden, ob sich eine Produktion im Weltraum rentiert und wie sie weitgehend automatisiert werden könnte. Dazu dient die Operationsplattform 'Wake Shield Facility' (WSF), die vom Orbiter Columbia in den erdnahen Raum verbracht wird und anschließend wieder zur Erde zurückkehrt. WSF wurde an der University of Houston (Space Vacuum Epitaxy Center, League City, Texas 77573) zusammen mit amerikanischen Halbleiter-Unternehmen und der amerikanischen Weltraumbehörde Nasa als eines der elf 'Commercial Space Centers' entwickelt. Während bei einem Raumflug im September 1995 erstmals Dünnschichtfilme aus Galliumarsenid und Aluminium-Galliumarsenid durch das ultrahohe und extrem reine Vakuum erzeugt werden konnten, die in ihrer Qualität bislang auf der Erde nicht herzustellen waren, zeigten sich aber noch Mängel, die anläßlich der neuen Columbia-Mission vermieden werden sollen. Dabei geht es um die möglichst weitgehende Vermeidung elektromagnetischer Interferenz-Einflüsse, die zum Beispiel von der Verkabelung der Plattform und ihren Steuerungen ausgehen. Diese scheinbar unerheblichen Veränderungen zeigen, daß Mikrogravität und ultrahohes Vakuum allein nicht ausreichen, um im Weltraum erfolgreich produzieren zu können. Gerade die elektromagnetischen Einflüsse, die im erdnahen Raum von der Sonne und vielleicht auch von sonnennahen Sternen oder selbst noch von der Erde ausgehen, verlangen einen recht hohen Abschirmaufwand. Man erwartet bei dieser erneuten Raum-Mission noch bessere Dünnschichtfilme als bei den letztjährigen Versuchen. Außerdem werden die zu registrierenden Prozeß-Parameter beim Epitaxie-Verfahren dazu herangezogen werden können, genauere Kostenabschätzungen einer Weltraum-Produktion dieser sehr gefragten Werkstoff-Kombinationen aufzustellen.


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    Titel :

    Halbleiter im Weltraum produzieren? Ultrahohes Vakuum und Mikrogravitation reichen allein nicht aus


    Weitere Titelangaben:

    Semiconductor production in space? Ultra high vacuum and micro gravitation are not enough


    Erschienen in:

    Blick durch die Wirtschaft ; 39 , 214 05.11.96 ; 12


    Erscheinungsdatum :

    1996


    Format / Umfang :

    1 Seite



    Medientyp :

    Aufsatz (Zeitschrift)


    Format :

    Print


    Sprache :

    Deutsch




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