Zugriff

    Zugriff über TIB

    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen

    Bestellung bei Subito €


    Exportieren, teilen und zitieren



    Titel :

    Plasma deposition of thin film silicon: kinetics monitored by optical emission spectroscopy




    Erscheinungsdatum :

    2002



    Medientyp :

    Aufsatz (Zeitschrift)


    Format :

    Print


    Sprache :

    Englisch



    Klassifikation :

    BKL:    52.52 Thermische Energieerzeugung, Wärmetechnik / 50.70 Energie: Allgemeines / 52.56 Regenerative Energieformen, alternative Energieformen / 53.36 Energiedirektumwandler, elektrische Energiespeicher



    TiO2 thin film temperature sensor monitored by smartphone

    Pan, Tingting / Cao, Wen / Wang, Ming | British Library Online Contents | 2018



    Thin Film Deposition on Plastics by ECR Plasma

    Tamamaki, H. / Nomura, M. / Sano, K. et al. | British Library Online Contents | 1997



    Optical Emission Spectroscopy of the A.C. Plasma Anemometer

    Matlis, Eric H. / Marshall, Curtis / Corke, Thomas C. et al. | AIAA | 2016