Relatively discharge free vacuum feedthrough uses silver-plated copper conductor jacketed by carbon filled silicon semiconductor to reduce concentrated electric fields and minimize occurrence of partial discharge.


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    Titel :

    Low partial discharge vacuum feedthrough


    Beteiligte:
    Benham, J. W. (Autor:in) / Peck, S. R. (Autor:in)

    Erschienen in:

    Erscheinungsdatum :

    1979-03-01



    Medientyp :

    Sonstige


    Format :

    Keine Angabe


    Sprache :

    Englisch


    Schlagwörter :


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