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    Titel :

    Extreme ultraviolet lithography using a four-mirror illumination optics


    Beteiligte:
    Haga, T. (Autor:in) / Kinoshita, H. (Autor:in)


    Erscheinungsdatum :

    1995-01-01


    Format / Umfang :

    342334 byte




    Medientyp :

    Aufsatz (Konferenz)


    Format :

    Elektronische Ressource


    Sprache :

    Englisch



    Extreme ultraviolet lithography

    Bokor, J. / Optical Society of America | British Library Conference Proceedings | 1997


    Extreme Ultraviolet Lithography

    Stulen, R. H. / Sweeney, D. W. | British Library Online Contents | 1999



    High-power source and illumination system for extreme ultraviolet lithography [3767-20]

    Kubiak, G. D. / Bernardez, L. J. / Krenz, K. D. et al. | British Library Conference Proceedings | 1999


    Multilayer coated optics for an alpha-class extreme ultraviolet lithography system [3767-31]

    Montcalm, C. / Grabner, R. F. / Hudyma, R. M. et al. | British Library Conference Proceedings | 1999