This paper deals about the high spatial resolution technique of argon plasma based quantum well intermixing using Si/sub 3/N/sub 4/ as the thermal stress-induced annealing mask in InGsAs/InGaAsP laser structure.


    Zugriff

    Zugriff prüfen

    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen

    Bestellung bei Subito €


    Exportieren, teilen und zitieren



    Titel :

    High spatial resolution of argon plasma-based quantum well intermixing using thermal stress-induced mask in InGaAs/InGaAsP laser structure


    Beteiligte:
    Djie, H.S. (Autor:in) / Arokiaraj, J. (Autor:in) / Mei, T. (Autor:in) / Ng, S.L. (Autor:in)


    Erscheinungsdatum :

    01.01.2003


    Format / Umfang :

    97055 byte




    Medientyp :

    Aufsatz (Konferenz)


    Format :

    Elektronische Ressource


    Sprache :

    Englisch