Zugriff

    Zugriff über TIB

    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen

    Bestellung bei Subito €


    Exportieren, teilen und zitieren



    Titel :

    Technologischer Einsatz von Jodwasserstoff-Plasmen für die Polysilicium-Gate-Strukturierung in einer Sub-Quarter-Micron-Technologie


    Beteiligte:

    Erscheinungsdatum :

    2000


    Format / Umfang :

    81 S


    Anmerkungen:

    graph. Darst
    Langzeitarchivierung durch Technische Informationsbibliothek (TIB) / Leibniz-Informationszentrum Technik und Naturwissenschaften und Universitätsbibliothek



    Medientyp :

    Hochschulschrift


    Format :

    Print


    Sprache :

    Deutsch