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    Titel :

    Physical mechanism of refractive index inhomogeneity of hafnium oxide thin film prepared by ion beam sputtering technique


    Beteiligte:
    Liu, Huasong (Autor:in) / Wang, Lishuan (Autor:in) / Li, Shida (Autor:in) / Jiang, Yugang (Autor:in) / Liu, Dandan (Autor:in) / Yang, Xiao (Autor:in) / Ji, Yiqin (Autor:in) / Zhang, Feng (Autor:in) / Chen, Deying (Autor:in)

    Erschienen in:

    Optical materials ; 75 ; 135-141


    Erscheinungsdatum :

    01.01.2018


    Format / Umfang :

    7 pages



    Medientyp :

    Aufsatz (Zeitschrift)


    Format :

    Print


    Sprache :

    Unbekannt


    Klassifikation :

    DDC:    535