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    Titel :

    Argon plasma inductively coupled plasma reactive ion etching study for smooth sidewall thin film lithium niobate waveguide application


    Beteiligte:
    Ulliac, G. (Autor:in) / Calero, V. (Autor:in) / Ndao, A. (Autor:in) / Baida, F.I. (Autor:in) / Bernal, M.-P. (Autor:in)

    Erschienen in:

    Erscheinungsdatum :

    01.01.2016


    Format / Umfang :

    5 pages



    Medientyp :

    Aufsatz (Zeitschrift)


    Format :

    Print


    Sprache :

    Unbekannt


    Klassifikation :

    DDC:    535





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