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    Titel :

    Advanced mask aligner lithography (AMALITH) for thick photoresist


    Beteiligte:
    Voelkel, R. (Autor:in) / Vogler, U. (Autor:in) / Bramati, A. (Autor:in) / Hennemeyer, M. (Autor:in) / Zoberbier, R. (Autor:in) / Voigt, A. (Autor:in) / Grützner, G. (Autor:in) / Ünal, N. (Autor:in) / Hofmann, U. (Autor:in)

    Erschienen in:

    MICROSYSTEM TECHNOLOGIES ; 20 , 10-11 ; 1839-1842


    Erscheinungsdatum :

    01.01.2014


    Format / Umfang :

    4 pages



    Medientyp :

    Aufsatz (Zeitschrift)


    Format :

    Print


    Sprache :

    Englisch


    Klassifikation :

    DDC:    629.83



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