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    Titel :

    An Approach for Measuring the Ellipsometric Parameters of Isotropic and Anisotropic Thin Films Using the Stokes Parameter Method


    Beteiligte:
    Lo, Y.-L. (Autor:in) / Hsieh, W.-H. (Autor:in) / Chung, Y.-F. (Autor:in) / Tsai, S.-A. (Autor:in)

    Erschienen in:

    JOURNAL OF LIGHTWAVE TECHNOLOGY ; 30 , 14 ; 2299-2306


    Erscheinungsdatum :

    2012-01-01


    Format / Umfang :

    8 pages



    Medientyp :

    Aufsatz (Zeitschrift)


    Format :

    Print


    Sprache :

    Englisch


    Klassifikation :

    DDC:    621.3692




    Measuring Unresolved Surface Features Using Imaging Ellipsometric Polarization Signatures

    Zhan, Q. / Leger, J. R. / Optical Society of America | British Library Conference Proceedings | 2002


    Force measuring sensor applying transmission ellipsometric principles

    Baetz, W. / Braasch, J. / Holzapfel, W. et al. | British Library Conference Proceedings | 1990



    Ellipsometric studies of the diffusion of automic oxygen through silicon dioxide thin films

    Meyers, Grant G. / Woollam, John / Gulino, Daniel A. et al. | NTRS | 1990