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    Titel :

    Study of residual stress-induced deformation of multilayer cantilever for maskless microplasma etching


    Beteiligte:
    Wen, L. (Autor:in) / Yuan, Z. (Autor:in) / Cheng, L. (Autor:in) / Zeng, H. (Autor:in) / Chu, J. (Autor:in)

    Erschienen in:

    MICROSYSTEM TECHNOLOGIES ; 18 , 1 ; 113-118


    Erscheinungsdatum :

    01.01.2012


    Format / Umfang :

    6 pages



    Medientyp :

    Aufsatz (Zeitschrift)


    Format :

    Print


    Sprache :

    Englisch


    Klassifikation :

    DDC:    629.83



    Photoinduced Micron Scale Maskless Etching in Transparent Glasses

    IEEE; Lasers and Electro-Optics Society | British Library Conference Proceedings | 1994


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