Zugriff

    Zugriff über TIB

    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen

    Bestellung bei Subito €


    Exportieren, teilen und zitieren



    Titel :

    Study on microstructural, chemical and electrical properties of tantalum nitride thin films deposited by reactive direct current magnetron sputtering


    Beteiligte:
    Grosser, M. (Autor:in) / Münch, M. (Autor:in) / Brenner, J. (Autor:in) / Wilke, M. (Autor:in) / Seidel, H. (Autor:in) / Bienert, C. (Autor:in) / Roosen, A. (Autor:in) / Schmid, U. (Autor:in)

    Erschienen in:

    MICROSYSTEM TECHNOLOGIES ; 16 , 5 ; 825-836


    Erscheinungsdatum :

    01.01.2010


    Format / Umfang :

    12 pages



    Medientyp :

    Aufsatz (Zeitschrift)


    Format :

    Print


    Sprache :

    Englisch


    Klassifikation :

    DDC:    629.83