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    Titel :

    Optical Lithography in the Extreme UV: As the number of transistors on a chip continues to increase, the industry's shrinking feature size engineers. Extreme Ultraviolet lithography can lead to a more-than-tenfold decrease in wavelength, translating to a startling leap in performance


    Beteiligte:
    Renwick, S. P. (Autor:in) / Williamson, D. (Autor:in) / Suzuki, K. (Autor:in) / Murakami, K. (Autor:in)

    Erschienen in:

    OPTICS AND PHOTONICS NEWS ; 18 , 10 ; 34-39


    Erscheinungsdatum :

    2007-01-01


    Format / Umfang :

    6 pages



    Medientyp :

    Aufsatz (Zeitschrift)


    Format :

    Print


    Sprache :

    Englisch


    Klassifikation :

    DDC:    621.36



    Extreme Ultraviolet Lithography

    Stulen, R. H. / Sweeney, D. W. | British Library Online Contents | 1999


    Extreme ultraviolet lithography

    Bokor, J. / Optical Society of America | British Library Conference Proceedings | 1997



    Extreme ultraviolet lithography with laser plasma sources

    Kubiak, G.D. / Tichenor, D.A. / Stulen, R.H. | IEEE | 1995


    Extreme-UV lithography struggles to shrink chip features

    Hecht, J. | British Library Online Contents | 2009