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    Titel :

    Research on Low Temperature Plasma Annealing of Indium Tin Oxide Films Prepared by Direct Current Magnetron Sputtering


    Beteiligte:
    Shiguang, S. (Autor:in) / Changchun, Z. (Autor:in)

    Erschienen in:

    Erscheinungsdatum :

    01.01.2007


    Format / Umfang :

    5 pages



    Medientyp :

    Aufsatz (Zeitschrift)


    Format :

    Print


    Sprache :

    Unbekannt


    Klassifikation :

    DDC:    500