Zugriff

    Zugriff über TIB

    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen

    Bestellung bei Subito €


    Exportieren, teilen und zitieren



    Titel :

    Trench filling characteristics of low stress TEOS/ ozone oxide deposited by PECVD and SACVD


    Beteiligte:
    Chang, C. (Autor:in) / Abe, T. (Autor:in) / Esashi, M. (Autor:in)

    Erschienen in:

    Erscheinungsdatum :

    01.01.2004


    Format / Umfang :

    6 pages



    Medientyp :

    Aufsatz (Zeitschrift)


    Format :

    Print


    Sprache :

    Englisch


    Klassifikation :

    DDC:    629.83



    Trench filling machine

    VANDERFORD CORNELIUS / SEWELL CODY L | Europäisches Patentamt | 2019

    Freier Zugriff

    Tile densification with TEOS

    Ecord, G. M. / Schomburg, C. | NTRS | 1981




    Silica Precursors Derived From TEOS

    Philipp, Warren H. | NTRS | 1993