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    Titel :

    Stitching-Error Reduction in Gratings by Shot-Shifted Electron-Beam Lithography


    Beteiligte:
    Dougherty, D. J. (Autor:in) / Muller, R. E. (Autor:in) / Maker, P. D. (Autor:in) / Forouhar, S. (Autor:in)

    Erschienen in:

    Erscheinungsdatum :

    01.01.2001


    Format / Umfang :

    5 pages



    Medientyp :

    Aufsatz (Zeitschrift)


    Format :

    Print


    Sprache :

    Englisch


    Klassifikation :

    DDC:    621.3692



    DMD5 Modeling and testing phase mask stitching error for writing fiber gratings

    Sheng, Y. / Wang, J. / Qiu, Y. et al. | British Library Conference Proceedings | 2000



    DTuD3 Optimization of electron beam dosages in direct-writing e-beam lithography for blazed diffraction gratings

    Kikuta, H. / Hirai, Y. / Okano, M. et al. | British Library Conference Proceedings | 2000



    Optical switching experiment in phase-shifted Bragg gratings

    IEEE | British Library Conference Proceedings | 1999