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    Titel :

    Quasi-Tem Analysis of a Shielded Microstrip Line of Elliptic Cross-Section with Finite Metallization Thickness Penetrating into the Substrate by the Finite Difference Method


    Beteiligte:
    Wang, Q. (Autor:in) / Liu, C. (Autor:in) / Li, Y. (Autor:in)


    Erscheinungsdatum :

    01.01.2000


    Format / Umfang :

    10 pages



    Medientyp :

    Aufsatz (Zeitschrift)


    Format :

    Print


    Sprache :

    Englisch


    Klassifikation :

    DDC:    621.3612



    Double Semiconductor Substrate in Overlay Shielded Superconducting Microstrip Lines

    Chaves Fernandes, H. C. / De Souza Queiroz Junior, I. | British Library Online Contents | 1996


    Effect of Substrate Thickness and Metallization Thickness on Dispersion Characteristics of CPW

    Rastogi, A. K. / McEwan, N. J. / Khairuddin, I. U. et al. | British Library Online Contents | 1995


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    Knisevskaja, L. / Tamosiuniene, M. / Sugurov, V. | British Library Online Contents | 2002


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