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    Titel :

    Silicon Crystallization by Excimer Laser Annealing (Invited)


    Beteiligte:

    Kongress:

    International workshop; 11TH, Active-matrix liquid-crystal displays:; AM-LCD 04 ; 2004 ; Tokyo



    Erscheinungsdatum :

    2004-01-01


    Format / Umfang :

    4 pages


    Medientyp :

    Aufsatz (Konferenz)


    Format :

    Print


    Sprache :

    Englisch








    Excimer laser machining of silicon nitride

    Wehner,M. / Burstroem,M. / Fraunhofer-Inst.f.Lasertechnologie,Aachen,DE et al. | Kraftfahrwesen | 1991