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    Titel :

    WB2.4 Realization of High Aspect Ratio Nano-Pillar Type Photonic Crystal by Deep Reactive Ion Etching


    Kongress:

    Optical interconnects & VLSI photonics ; 2004 ; San Diego, Calif



    Erscheinungsdatum :

    2004-01-01


    Format / Umfang :

    2 pages


    Anmerkungen:

    IEEE cat. no. 04TH8728. Held as part of the 2004 IEEE/LEOS Summer topical meeting




    Medientyp :

    Aufsatz (Konferenz)


    Format :

    Print


    Sprache :

    Englisch






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