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    Titel :

    Contamination Resists in Metastable Atom Lithography


    Beteiligte:
    Baker, M. (Autor:in) / Palmer, A. J. (Autor:in) / Sang, R. T. (Autor:in) / Gal, M. / IEEE

    Kongress:

    Conference, Optoelectronic and microelectronic materials and devices; COMMAD 2002 ; 2002 ; Sydney, Australia



    Erscheinungsdatum :

    01.01.2002


    Format / Umfang :

    4 pages


    Anmerkungen:

    IEEE cat no 02EX601




    Medientyp :

    Aufsatz (Konferenz)


    Format :

    Print


    Sprache :

    Englisch




    Contamination resists in metastable atom lithography

    Baker, M. / Palmer, A.J. / Sang, R.T. | IEEE | 2002


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