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    Titel :

    AIAA-2002-5750 Concept of Ultra-Vacuum No-Lithography MBE Technologies for 3D Nanoelectronic CBFE ULSI/WSI on Spacefabs



    Kongress:

    Conference, NanoTech ; 2002 ; Houston, TX


    Erschienen in:

    NanoTech ; 5700/5766 ; 236-246


    Erscheinungsdatum :

    01.01.2002


    Format / Umfang :

    11 pages



    Medientyp :

    Aufsatz (Konferenz)


    Format :

    Print


    Sprache :

    Englisch





    Excimer lithography for ULSI

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