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    Titel :

    Design, fabrication, and characterization of broadband multilayer mirrors for EUV optics at normal incidence [4146-10]


    Beteiligte:
    Wang, Z. (Autor:in) / Kun, C. (Autor:in) / Ma, Y. (Autor:in) / Chen, B. (Autor:in) / Cao, J. (Autor:in) / Zhou, Z. (Autor:in) / Chen, X. (Autor:in) / Michette, A. G. (Autor:in) / Kaiser, W. M. / Stulen, R. H.

    Kongress:

    Conference, Soft x-ray and EUV imaging systems ; 2000 ; San Diego, CA



    Erscheinungsdatum :

    2000-01-01


    Format / Umfang :

    8 pages




    Medientyp :

    Aufsatz (Konferenz)


    Format :

    Print


    Sprache :

    Englisch




    Illumination optics design for EUV lithography [4146-03]

    Antoni, M. / Singer, W. / Schultz, J. et al. | British Library Conference Proceedings | 2000


    Nr. 4146

    DataCite | 1925


    Multilayer reflectance during exposure to EUV radiation [4146-07]

    Oestreich, S. / Klein, R. / Scholze, F. et al. | British Library Conference Proceedings | 2000


    Broadband normal-incidence aperiodic multilayer mirrors for soft x-ray dispersive spectroscopy: theory and implementation [4782-24]

    Ragozin, E. N. / Kondratenko, V. V. / Levashov, V. E. et al. | British Library Conference Proceedings | 2002


    High-resolution soft x-ray microscopy [4146-24]

    Chao, W. / Anderson, E. H. / Denbeaux, G. et al. | British Library Conference Proceedings | 2000