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    Titel :

    In-situ ellipsometric measurements of thin film aluminum oxidation [4099-26]


    Beteiligte:

    Kongress:

    Conference, Optical metrology roadmap for the semiconductor, optical, and data storage industries ; 2000 ; San Diego, CA



    Erscheinungsdatum :

    2000-01-01


    Format / Umfang :

    10 pages




    Medientyp :

    Aufsatz (Konferenz)


    Format :

    Print


    Sprache :

    Englisch




    Nr. 4099

    DataCite | 1924


    Fast-scanning ellipsometry for thin film characterization [4099-39]

    Berge, C. / Krasilnikova, A. / Masetti, E. et al. | British Library Conference Proceedings | 2000


    Standardization in optics characterization (Invited Paper) [4099-14]

    Ristau, D. / SPIE | British Library Conference Proceedings | 2000


    Calibration requirements for identifying and sizing wafer defects by scanner measurements [4099-38]

    Stover, J. C. / Scheer, C. A. / SPIE | British Library Conference Proceedings | 2000


    Nondestructive film thickness measurement using atomic force microscopy at ultrasonic frequencies [4099-06]

    Crozier, K. B. / Yaralioglu, G. G. / Degertekin, F. L. et al. | British Library Conference Proceedings | 2000