Zugriff

    Zugriff über TIB

    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen

    Bestellung bei Subito €


    Exportieren, teilen und zitieren



    Titel :

    Critical review on photoresists



    Kongress:

    Conference, Polymers in optics: physics, chemistry, and applications ; 1996 ; Denver; CO



    Erscheinungsdatum :

    1996-01-01


    Format / Umfang :

    25 pages



    Medientyp :

    Aufsatz (Konferenz)


    Format :

    Print


    Sprache :

    Englisch


    Schlagwörter :


    Energetic Atoms Would Etch Photoresists Anisotropically

    Koontz, Steven / Cross, Jon | NTRS | 1993


    Rapid Dry Etching Of Photoresists Without Toxic Gases

    Lerner, Narcinda R. / Wydeven, Theodore | NTRS | 1991


    Holographic recording in amorphous chalcogenide semiconductor photoresists [3347-06]

    Teteris, J. / Russian Academy of Sciences; Institute of Optical Neural Technologies / SPIE et al. | British Library Conference Proceedings | 1998


    Photochemical processes in photoresists containing electron donor molecules [3347-39]

    Grishina, A. D. / Vannikov, A. V. / Khazova, G. O. et al. | British Library Conference Proceedings | 1998


    Low-dielectric-constant photoresists for insulation on TFT array [4078-115]

    Lee, R.-J. / Wu, Y.-C. / Chen, S.-L. et al. | British Library Conference Proceedings | 2000