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    Titel :

    X-Ray and Extreme Ultraviolet Test Facility of the XMM Optics



    Kongress:

    46th, International astronautical congress ; 1995 ; Oslo


    Erschienen in:

    IAF CONGRESS ; iaf-95-q.2.02


    Erscheinungsdatum :

    01.01.1995


    Format / Umfang :

    ALL


    Anmerkungen:

    Separate papers nos 95-I.2.07 to 95-W.2.08 with gaps


    Medientyp :

    Aufsatz (Konferenz)


    Format :

    Print


    Sprache :

    Englisch


    Schlagwörter :



    New Facility for Extreme Ultraviolet and X-ray Testing

    Cucchiaro, A. / Domken, I. / Jamotton, P. et al. | British Library Conference Proceedings | 1997



    Multilayer coated optics for an alpha-class extreme ultraviolet lithography system [3767-31]

    Montcalm, C. / Grabner, R. F. / Hudyma, R. M. et al. | British Library Conference Proceedings | 1999


    Extreme Ultraviolet Lithography

    Stulen, R. H. / Sweeney, D. W. | British Library Online Contents | 1999