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    Titel :

    Influence of post-exposure bake on resist contrast [2195-55]


    Beteiligte:

    Kongress:

    11th Conference, Advances in resist technology and processing XI ; 1994 ; San Jose; CA



    Erscheinungsdatum :

    01.01.1994


    Format / Umfang :

    12 pages


    Anmerkungen:

    Held in conjunction with the symposium on microlithography




    Medientyp :

    Aufsatz (Konferenz)


    Format :

    Print


    Sprache :

    Englisch




    Nr. 2195

    DataCite | 1887


    Study on thermal control of x-ray mask during post-exposure bake [5253-87]

    Wang, Y. / Yu, J. / Yu, L. et al. | British Library Conference Proceedings | 2003


    Filler Wire Development for 2195 Aluminum-Lithium

    G. Bjorkman / A. Cho / C. Russell et al. | NTIS | 1998



    Paint Bake Influence on AA7075 and AA7085

    Harrison, Nia R. / Luckey, S. George / Cappuccilli, Breana et al. | British Library Conference Proceedings | 2017