Mit der SLAN (Schlitzantennenstrahler) konnte eine zuverlässige und vielseitige Quelle zur Erzeugung großvolumiger Plasmen hoher Dichte geschaffen werden. Ihr Konzept, - die konzentrische Einkopplung der Mikrowelle über einen Ringresonator mit Schlitzantennen in eine Plasmakammer aus Quarzglas - hat sich als erfolgreich erwiesen. Das SLAN-Konzept erlaubt mit der Skalierung des Ringresonators eine Variation der Plasmakammer über einen weiten Bereich. Die SLAN Palette erstreckt sich dabei von einer micro-SLAN mit 4 cm Durchmesser, über die Standardversion mit 15 cm bis hin zur SLAN II mit einem Durchmesser von 65 cm. Durch die Steigerung der einkoppelbaren Leistung, einer mikrowellentechnischen Optimierung der Geometrien und der Option einer ECR-Unterstützung für die Standard-SLAN, konnte der Arbeitsbereich auf 2 x 10-4 bis 1000 mbar erweitert werden. Durch die Verbesserung des Übertragungselementes Antenne und einer effizienteren Luftkühlung ist es möglich, bis zu 6 kW Mikrowellenleistung in das Plasma einzukoppeln. Aufgrund des hohen Verhältnisses von Einkoppelfläche zu Plasmavolumen besteht für das SLAN Konzept ein großes Potential zur Leistungssteigerung. Die Leistungsdichte (pro Einkoppelfläche), welche eine beschränkende Größe darstellt, liegt bei der SLAN I in dem Bereich von 0,5 bis 2,7 W/cm2 und bei der SLAN II von 0,2 bis 0,67 W/cm 2. Ein Vergleich mit anderen kommerziellen Quellen zeigt, daß diese Werte um eine Größenordnung kleiner sind. Des weiteren erlaubt die große, konzentrische Einkoppelfläche auch bei einem Quellendurchmesser von 65 cm, daß im Zentrum noch Dichten von 10 12 Ionen pro cm 3 erreicht werden.
Plasmamodifizierung von Formteiloberflächen für den Einsatz im Automobilbau
1997
104 Seiten, Bilder, Tabellen
Report
German
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