Erlaeuterung und schematische Darstellung der prinzipiellen Unterschiede zwischen konventioneller Kathodenzerstaeubung und Magnetron-Zerstaeubung sowie der Wirkung des Magnetfeldes auf die Gasentladung beim Magnetron-Zerstaeuben. Vorteile des Magnetron-Zerstaeubens gegenueber dem konventionellen Kathodenzerstaeuben: hoehere Aufstaeubungsrate und hoehere Haftfaehigkeit. Erreichbare statische Magnetron-Aufstaeubraten fuer Kupfer. Konstruktionsform von Magnetronkathoden. Einsatzmoeglichkeiten: u.a. Flachglasbeschichtung fuer Architektur, Glasbeschichtung fuer Automobilbau, Beschichten von Folien fuer Verpackungen und Kondensatoren, Oberflaechenveredelung, Verschleissschutzschichten u.a.m.


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    Title :

    Unter Ionenbeschuss. Kathodenzerstaeubung schafft auch dicke Targets


    Additional title:

    Cathode sputtering for thick targets


    Contributors:
    Kieser, J. (author)

    Published in:

    Ind.-Anz. ; 107 , 78 ; 76-German


    Publication date :

    1985


    Size :

    2 Seiten, 3 Bilder


    Type of media :

    Article (Journal)


    Type of material :

    Print


    Language :

    German




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