Erlaeuterung und schematische Darstellung der prinzipiellen Unterschiede zwischen konventioneller Kathodenzerstaeubung und Magnetron-Zerstaeubung sowie der Wirkung des Magnetfeldes auf die Gasentladung beim Magnetron-Zerstaeuben. Vorteile des Magnetron-Zerstaeubens gegenueber dem konventionellen Kathodenzerstaeuben: hoehere Aufstaeubungsrate und hoehere Haftfaehigkeit. Erreichbare statische Magnetron-Aufstaeubraten fuer Kupfer. Konstruktionsform von Magnetronkathoden. Einsatzmoeglichkeiten: u.a. Flachglasbeschichtung fuer Architektur, Glasbeschichtung fuer Automobilbau, Beschichten von Folien fuer Verpackungen und Kondensatoren, Oberflaechenveredelung, Verschleissschutzschichten u.a.m.
Unter Ionenbeschuss. Kathodenzerstaeubung schafft auch dicke Targets
Cathode sputtering for thick targets
Ind.-Anz. ; 107 , 78 ; 76-German
1985
2 Seiten, 3 Bilder
Article (Journal)
German
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