Die Bedeutung dieses F/E-Programms fuer die Air Form besteht in der Beweisfuehrung, dass der CVD-Prozess (Chemical Vapor Deposition) benutzt werden kann, um die Haerte von optischen Materialien wie Zinkselenid und -sulfid durch Zusatzmittel wie Aluminium und Silikon zu steigern. Es konnte auch gezeigt werden, dass mit diesem Prozess eine Ablagerung einer duennen Zinksulfidschicht o.ae. auf einem glatten Zinkselenidsubstrat erreicht werden kann.
Hardened CVD zinc selenide for FLIR windows
Oberflaechengehaertetes Zinkselenid fuer FLIR-Fenster
Government-Report ; Sept. ; 1-81
1975
81 Seiten
Report
English
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