Die Bedeutung dieses F/E-Programms fuer die Air Form besteht in der Beweisfuehrung, dass der CVD-Prozess (Chemical Vapor Deposition) benutzt werden kann, um die Haerte von optischen Materialien wie Zinkselenid und -sulfid durch Zusatzmittel wie Aluminium und Silikon zu steigern. Es konnte auch gezeigt werden, dass mit diesem Prozess eine Ablagerung einer duennen Zinksulfidschicht o.ae. auf einem glatten Zinkselenidsubstrat erreicht werden kann.


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    Title :

    Hardened CVD zinc selenide for FLIR windows


    Additional title:

    Oberflaechengehaertetes Zinkselenid fuer FLIR-Fenster


    Contributors:
    Donadio, R.N. (author) / Swanon, A.W. (author) / Pappis, J. (author)

    Published in:

    Government-Report ; Sept. ; 1-81


    Publication date :

    1975


    Size :

    81 Seiten


    Type of media :

    Report


    Type of material :

    Print


    Language :

    English




    FLIR Systems Inc.

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    Lightweight surveillance FLIR

    Fawcett, James M. | SPIE | 1991


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    Ferguson, C W. / Taylor, J. K. | SPIE | 1976