Für die berührungslose Erfassung von Oberflächenbeschaffenheiten und Mikrogeometrie werden immer häufiger auf Interferenzmikroskopie basierende Messsysteme eingesetzt. Sie haben wesentliche Vorteile gegenüber taktilen Messverfahren, reagieren aber auch hochempfindlich auf Störeinflüsse wie Vibrationen oder Justagefehler. Um die Einflussfaktoren und die Messunsicherheit dieser Messvorrichtungen besser analysieren zu können wurde ein Simulationswerkzeug entwickelt, welches die genaue Verfolgung, Protokollierung und Rekonstruktion des Strahlenverlaufs ermöglicht. Dieses so genannte "virtuelle Interferenzmikroskop" wird beschrieben. Besonders wird auf die Möglichkeiten der Untersuchung des Weißlichtcharakters von Interferenzmikroskopen eingegangen, da diese überwiegend Einsatz finden bei der Oberflächenerfassung. Das geschaffene Simulationswerkzeug ist ein wichtiges Mittel zur grundlegenden Erfassung der Messvorgänge der Interferometrie.


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    Title :

    Modellierung optischer Messprozesse


    Subtitle :

    Untersuchung der Interferenzmiskroskopie mittels Simulationen


    Additional title:

    Modelling of optical measurement methods - Analysis of interference microscopy via simulation



    Published in:

    tm - Technisches Messen ; 75 , 4 ; 230-236


    Publication date :

    2008-01-01


    Size :

    7 pages



    Type of media :

    Article (Journal)


    Type of material :

    Print


    Language :

    German




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