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    Title :

    Grundlagen und Technologie für die Silizium-Dünnschichtphotovoltaik auf der Basis von Niedertemperaturprozessen : Schlussbericht



    Publication date :

    2012


    Size :

    Online-Ressource (39 S., 705 KB)


    Remarks:

    Ill., graph. Darst.
    Förderkennzeichen BMU 0327625. - Auch als gedr. Ausg. vorhanden. - Unterschiede zwischen dem gedruckten Dokument und der elektronischen Ressource können nicht ausgeschlossen werden
    Digital preservation by Technische Informationsbibliothek (TIB) / Leibniz-Informationszentrum Technik und Naturwissenschaften und Universitätsbibliothek



    Type of media :

    Report


    Type of material :

    Electronic Resource


    Language :

    German



    Classification :

    BKL:    53.56 Halbleitertechnologie / 53.36 Energiedirektumwandler, elektrische Energiespeicher




    Festphasenepitaxie auf Laserkristallisierten Silicium Keimschichten für die Dünnschichtphotovoltaik

    Höger, Ingmar / Friedrich-Schiller-Universität Jena | TIBKAT | 2014

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    Technologie für die Silizium-Dünnschichtmodulfertigung sowie innovative Verschaltungskonzepte : Schlussbericht zum Vorhaben "TeSiD"

    Haas, Stefan / Gerber, Andreas / Institut für Energie- und Klimaforschung, Photovoltaik, Jülich | TIBKAT | 2014


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