Das unkompensierte Magnetron-Sputtern hat gegenüber dem konventionellen Sputtern den Vorteil, daß sich die Zone hoher Plasmakonzentration vom Target hin zum Substrat verlagert, so daß Dünnschichten niedriger Porosität auf größeren Substratflächen bei höheren Abscheidungsraten möglich sind. Bei der Abscheidung von verschleißfestem TiN wurden Abstandhalter für Schweißelektroden und Zahnprothesen nach diesem Verfahren beschichtet. Neu entwickelte korrosionsfeste Al-Mg-Schichten haben gegenüber den herkömmlichen Al-Schichten den Vorteil, daß sie auch nach Beschädigung durch z.B. Kratzer korrosionshemmend wirken. Mit Hilfe des Magnetrons war es möglich, stark übersättigte Mischkristalle mit bis zu 20 % Mg abzuscheiden. Weiterhin wurden übersättigte Cu-Cr-, Al-Ta-, Cu-Pb-, Pd-Ag- und Cu-W-Mischkristallschichten hergestellt, die zur Zeit noch weiter untersucht werden. Bei nichtrostendem Stahl wurde eine Si-Konzentration von bis zu 10 % durch Magnetron-Sputtern erreicht. Eine Innovation ist die Abscheidung von pyrotechnischen Mehrfachschichten wie Ti/B, die die üblichen Probleme der pulvrigen Pyrotechnik wie Alterung, Zersetzung durch Feuchtigkeit und Konzentrationsschwankungen vermeidet. Ihre Nutzung ermöglicht eine präzise Dosierung des pyrotechnischen Effektes. Die Schichten werden im Vakuum abgeschieden, um Oxidschichten auf den metallischen Schichten zu verhindern.


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    Titel :

    Some recent applications of materials deposited by unbalanced magnetron sputtering


    Weitere Titelangaben:

    Einige neuere Anwendungen des unkompensierten Magnetron-Sputterns


    Beteiligte:
    Kelly, P.J. (Autor:in) / Arnell, R.D. (Autor:in) / Abmed, W. (Autor:in)

    Erschienen in:

    Surface Engineering ; 09 , 04 ; 287-291


    Erscheinungsdatum :

    1993


    Format / Umfang :

    5 Seiten, 6 Bilder, 11 Quellen



    Medientyp :

    Aufsatz (Zeitschrift)


    Format :

    Print


    Sprache :

    Englisch




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