A process for producing a selective emittance coating for aluminium surfaces is discussed. Standard photoresist techniques are used to produce a uniform dot pattern. Emittance and reflectance are controlled by varying the ratio of anodized dot area to bare aluminium area. Process parameters, scale-up, effect of forming operations, theoretical values, and experimental data are presented. (Kursetz)


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    Titel :

    Anodized dots variable emittance coating


    Weitere Titelangaben:

    Variable Abstrahlungsschichten mit anodisierten Fleckenmustern


    Beteiligte:
    Martin, R.J. (Autor:in)


    Erscheinungsdatum :

    1979


    Format / Umfang :

    6 Seiten, 6 Bilder


    Medientyp :

    Aufsatz (Konferenz)


    Format :

    Print


    Sprache :

    Englisch




    VO2-based Thermochromic Variable Emittance Coating

    Sydney Taylor / Liping Wang / Jeremy Chao et al. | NTRS


    Measurement of Thermal Emittance on Hard Anodized Surface for Spacecraft Thermal Control

    Ramasamy, A. / Sundaresan, N. K. | SAE Technical Papers | 1987


    Thin film coatings with variable emittance

    Larsson, A.L. / Niklasson, G. / Stenmark, L. | Tema Archiv | 1999


    Development of a Variable Emittance Radiator

    Okamoto, A. / Nakamura, Y. / Ochi, A. et al. | British Library Conference Proceedings | 2002


    Development of a Variable Emittance Radiator, 1999

    Ohnishi, Akira / Okamoto, Akira / Ochi, Atsushi et al. | SAE Technical Papers | 1999