Zugriff

    Zugriff über TIB

    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen

    Bestellung bei Subito €


    Exportieren, teilen und zitieren



    Titel :

    Studies on the structural properties of SiO:H films prepared from (SiH4+CO2+He) plasma in RF-PECVD


    Beteiligte:


    Erscheinungsdatum :

    2009



    Medientyp :

    Aufsatz (Zeitschrift)


    Format :

    Print


    Sprache :

    Englisch



    Klassifikation :

    BKL:    53.36 Energiedirektumwandler, elektrische Energiespeicher / 52.52 Thermische Energieerzeugung, Wärmetechnik / 52.56 Regenerative Energieformen, alternative Energieformen / 50.70 Energie: Allgemeines






    a-SiO:H Films and Their Application to Solar Cells

    Fujikake, S. / Ohta, H. / Sichanugrist, P. et al. | British Library Online Contents | 1994


    A photoluminescence of low-K SiOCH films, prepared by PECVD

    Ligatchev, V. / Wong, T.K.S. / Rusli, | IEEE | 2002