Zugriff

    Zugriff über TIB

    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen

    Bestellung bei Subito €


    Exportieren, teilen und zitieren



    Titel :

    Influence of process pressure on HW-CVD deposited a-Si:H films




    Erscheinungsdatum :

    2005



    Medientyp :

    Aufsatz (Zeitschrift)


    Format :

    Print


    Sprache :

    Englisch



    Klassifikation :

    BKL:    53.36 Energiedirektumwandler, elektrische Energiespeicher / 52.52 Thermische Energieerzeugung, Wärmetechnik / 52.56 Regenerative Energieformen, alternative Energieformen / 50.70 Energie: Allgemeines





    Growth Process of a-Si:H

    Ganguly, G. / Matsuda, A. | British Library Online Contents | 1994


    Optical characteristics of a-Si:H layers deposited by PACVD at various temperatures

    Jaglarz, Janusz / Jurzecka-Szymacha, Maria / Tkacz-Śmiech, Katarzyna et al. | British Library Online Contents | 2015