Zugriff

    Zugriff über TIB

    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen

    Bestellung bei Subito €


    Exportieren, teilen und zitieren



    Titel :

    More stable low gap a-Si:H layers deposited by PE-CVD at moderately high temperature with hydrogen dilution




    Erscheinungsdatum :

    2001



    Medientyp :

    Aufsatz (Zeitschrift)


    Format :

    Print


    Sprache :

    Englisch



    Klassifikation :

    BKL:    53.36 Energiedirektumwandler, elektrische Energiespeicher / 52.52 Thermische Energieerzeugung, Wärmetechnik / 52.56 Regenerative Energieformen, alternative Energieformen / 50.70 Energie: Allgemeines



    Optical characteristics of a-Si:H layers deposited by PACVD at various temperatures

    Jaglarz, Janusz / Jurzecka-Szymacha, Maria / Tkacz-Śmiech, Katarzyna et al. | British Library Online Contents | 2015



    Influence of Hydrogen Dilution of Silane on the Properties of nc-Si:H Films Grown by Layer-by-Layer Deposition Technique

    Tong, G.B. / Gani, S.M.A. / Rahman, S.A. | British Library Conference Proceedings | 2008