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    Titel :

    Chemical Vapor Deposition of Silicon Carbide With Controlled Doping


    Erschienen in:

    Erscheinungsdatum :

    1996



    Medientyp :

    Aufsatz (Zeitschrift)


    Format :

    Print


    Sprache :

    Englisch


    Klassifikation :

    BKL:    55.60 Raumfahrttechnik / 55.60 / 50.00 / 50.00 Technik allgemein: Allgemeines



    Chemical-Vapor Deposition Of Silicon Carbide

    Cagliostro, D. E. / Riccitiello, S. R. / Ren, J. et al. | NTRS | 1993



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    Engdahl, Richard E. | SAE Technical Papers | 1974


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    Chang, W. Y. / Feng, Z. C. / Chua, S. J. et al. | British Library Conference Proceedings | 2000


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