Die optische Messtechnik zeichnet sich aus durch ihre hohe Geschwindigkeit, durch die rückwirkungsfreie Datengewinnung und durch die hohen Auflösungen, die sie erreichen kann. Allerdings zeigten sich in der Vergangenheit oft große Abweichungen zu taktilen Verfahren, wenn optisch rauhe Oberflächen vermessen wurden. Der Beitrag zeigt, dass sowohl die konfokale Mikroskopie als auch die Weißlichtinterferometrie geeignet sind, hochaufgelöste und vor allen Dingen vergleichbare Ergebnisse zu liefern. Vorgestellt werden die Verfahren, Ergebnisse an technischen Proben und ein Ausblick, wie Materialapekte bei der Messung berücksichtigt werden können, indem zusätzlich ellipsometrische Winkel gemessen werden. Unter Hinzunahme von polarisationsoptischen Kenngrößen lässt sich die Topometrie erweitern. Der besondere Einfluss von Materialwechseln wird durch ellipsometrische Messungen zugänglich. Erste Ergebnisse zur Korrektur von Höhenprofilen werden vorgestellt.


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    Titel :

    Messung und Beschreibung von Mikrostrukturen unter Berücksichtigung materialspezifischer Eigenschaften



    Erschienen in:

    tm - Technisches Messen ; 66 , 11 ; 429-436


    Erscheinungsdatum :

    1999-01-01


    Format / Umfang :

    8 pages



    Medientyp :

    Aufsatz (Zeitschrift)


    Format :

    Print


    Sprache :

    Deutsch