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    Titel :

    Reduction of particles in a-Si films deposited by laser ablation


    Beteiligte:
    Uchida, H. (Autor:in) / Tsujihara, K. (Autor:in) / Ishihara, S. (Autor:in) / Nakamura, N. (Autor:in) / Hasegawa, H. (Autor:in) / Hanabusa, M. (Autor:in)


    Erscheinungsdatum :

    1995-01-01


    Format / Umfang :

    163149 byte




    Medientyp :

    Aufsatz (Konferenz)


    Format :

    Elektronische Ressource


    Sprache :

    Englisch



    Studies of aluminum oxide thin films deposited by laser ablation technique

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