We utilize a CO/sub 2/ laser in the deposition process because SiH/sub 4/ molecules have high photon absorption of laser light. This absorption increases the decomposition of SiH/sub 4/ molecules and helps form the Si-nanostructures in low-temperature growth.


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    Titel :

    Low-temperature growth of Si-nanostructures by laser assistance of conventional plasma enhanced chemical vapor deposition


    Beteiligte:
    Chun-Hung Lin, (Autor:in) / Ching-Ting Lee, (Autor:in)


    Erscheinungsdatum :

    01.01.2003


    Format / Umfang :

    82717 byte




    Medientyp :

    Aufsatz (Konferenz)


    Format :

    Elektronische Ressource


    Sprache :

    Englisch