A monitoring system that includes an imaging device. The imaging device includes a first exposure profile and a second exposure profile. An illumination source is configured to emit at least one of infrared (IR) or near infrared (NIR) illumination. A control system is configured to alternate between the first exposure profile and the second exposure profile in accordance with a first pattern. The first exposure profile corresponds to the emission of illumination from the illumination source and the second exposure profile corresponds to ambient lighting.
Système de surveillance comprenant un dispositif d'imagerie. Le dispositif d'imagerie comprend un premier profil d'exposition et un second profil d'exposition. Une source d'éclairage est configurée pour émettre un éclairage infrarouge (IR) et/ou proche infrarouge (NIR). Un système de commande est configuré pour alterner entre le premier profil d'exposition et le second profil d'exposition conformément à un premier schéma. Le premier profil d'exposition correspond à l'émission d'un éclairage à partir de la source d'éclairage et le second profil d'exposition correspond à un éclairage ambiant.
MONITORING SYSTEM
SYSTÈME DE SURVEILLANCE
2024-06-06
Patent
Elektronische Ressource
Englisch
MONITORING DEVICE, MONITORING SYSTEM, MONITORING METHOD AND MONITORING PROGRAM
Europäisches Patentamt | 2019
|MONITORING DEVICE, MONITORING SYSTEM, MONITORING METHOD, AND MONITORING PROGRAM
Europäisches Patentamt | 2019
|MONITORING DEVICE, MONITORING SYSTEM, AND MONITORING METHOD
Europäisches Patentamt | 2024
|Monitoring device, monitoring system, and monitoring method
Europäisches Patentamt | 2023
|MONITORING SYSTEM, MONITORING METHOD, AND MONITORING PROGRAM
Europäisches Patentamt | 2017
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