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    Titel :

    Grundlagen und Technologie für die Silizium-Dünnschichtphotovoltaik auf der Basis von Niedertemperaturprozessen : Schlussbericht


    Beteiligte:

    Erscheinungsdatum :

    2012


    Format / Umfang :

    39 Bl.


    Anmerkungen:

    Ill., graph. Darst.
    Förderkennzeichen BMU 0327625. - Auch als elektronische Ressource vorhanden. - Unterschiede zwischen dem gedruckten Dokument und der elektronischen Ressource können nicht ausgeschlossen werden


    Medientyp :

    Report


    Format :

    Print


    Sprache :

    Deutsch



    Klassifikation :

    BKL:    53.56 Halbleitertechnologie / 53.36 Energiedirektumwandler, elektrische Energiespeicher




    Festphasenepitaxie auf Laserkristallisierten Silicium Keimschichten für die Dünnschichtphotovoltaik

    Höger, Ingmar / Friedrich-Schiller-Universität Jena | TIBKAT | 2014

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    Technologie für die Silizium-Dünnschichtmodulfertigung sowie innovative Verschaltungskonzepte : Schlussbericht zum Vorhaben "TeSiD"

    Haas, Stefan / Gerber, Andreas / Institut für Energie- und Klimaforschung, Photovoltaik, Jülich | TIBKAT | 2014


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