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    Titel :

    Fabrication of curved sub-micron Si structures by a combination of anisotropic etching using surfactant-added TMAH solution and FIB direct-drawn mask


    Beteiligte:
    Tanaka, H. (Autor:in) / Hida, H. (Autor:in) / Sato, K. (Autor:in)

    Erschienen in:

    MICROSYSTEM TECHNOLOGIES ; 19 , 7 ; 1065-1067


    Erscheinungsdatum :

    01.01.2013


    Format / Umfang :

    3 pages



    Medientyp :

    Aufsatz (Zeitschrift)


    Format :

    Print


    Sprache :

    Englisch


    Klassifikation :

    DDC:    629.83



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