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    Titel :

    Photolithography Photomask-optimization model reduces effects of optical aberrations


    Erschienen in:

    LASER FOCUS WORLD ; 47 , 4 ; 26-28


    Erscheinungsdatum :

    01.01.2011


    Format / Umfang :

    3 pages



    Medientyp :

    Aufsatz (Zeitschrift)


    Format :

    Print


    Sprache :

    Englisch


    Klassifikation :

    DDC:    621.366




    Membrane photolithography

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    Refractive Surgery and Optical Aberrations

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    IEEE; Lasers and Electro-Optics Society | British Library Conference Proceedings | 1996